硅片是现代半导体制造中不可或缺的材料，硅片表面沾染的各种杂质、残渣会影响到其制造、使用效果及寿命。因此，硅片清洗是非常重要的一个过程。
硅片清洗的方法很多，常用的包括机械清洗、化学清洗等。其中，机械清洗虽然简单，但由于硅片表面容易受到机械损伤，且不适用于精细加工的硅片；而化学清洗有着高效快捷、处理温度低、能够保证充分清洗等优点。
下面，我们分享一种清洗硅片的方法，你可以尝试一下：
- Step 1：将硅片放入去离子水中清洗1min。
- Step 2：加入压缩空气，并利用离心力将硅片离心干燥。
- Step 3：用1HNO3：8HF溶液清洗硅片10min。
- Step 4：用去离子水清洗硅片5min。
- Step 5：将硅片放入烘箱中，在120℃上烘5min。
完成以上步骤后，你会发现硅片表面干净明亮，而且清洗过程极为简单便捷。
